三維表麵測量儀輪廓儀台階儀（納米級）

三維表麵形貌儀 采用了上等光學係統,可通過非破壞觀察法生產高畫質的圖像並進行**的3D測量,可以滿足不同樣品的觀測需求

三維表麵測量儀輪廓儀台階儀(納米級)NanoFocus2000是用於表麵結構測量和表麵形貌分析的一款檢測設備

采用垂直掃描白光幹涉和移相幹涉技術，實現對樣品表麵粗糙度、台階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征的納米級三維精密測量。廣泛應用於半導體工藝、航空航天、太陽能電池工藝、材料表麵工程、MEMS、超精密加工等領域。

三維表麵測量儀輪廓儀台階儀(納米級)NanoFocus2000產品特點：

測量精度重複性達到世界較高水平

關鍵硬件采用美國、德國、日本等

配備進口第三方校準標準件

高性價比微觀形貌測量設備

迅捷、高效的上等售後服務

覆蓋範圍廣

兼容多種測量和觀察需求

保護性

非接觸式光學幹涉測量

可操作性

“一鍵式”操作更簡單、高效

智能化

特殊形狀智能計算特征參數

個性化

定製化測試報告

NanoFocus2000三維表麵微觀形貌檢測儀主要由精密載物台、照明係統、光學幹涉成像係統、實現移相運動的微位移係統、圖像采集係統及圖像數據處理係統等組成。整個檢測儀放置在氣浮抗振平台上。載物台用於安放被測件，同時通過傾斜和XY二維平移調整使被測麵**定位於感興趣的區域；光源及照明係統提供給被測麵均勻又充分的反射式照明；幹涉成像係統采用Mirau幹涉物鏡結構獲取被測表麵幹涉圖像；采用壓電陶瓷傳感器（PZT）實現微位移控製；通過CCD與自主開發的軟件係統采集並處理幹涉圖像，獲得被測麵的相位信息進而得到表麵輪廓。

三維表麵測量儀/三維表麵形貌儀NanoFocus2000(納米級) 主要指標：

    CCD分辨率：像素1280x960

    測試模式：PSI + VSI 檢測模式

    縱向分辨率：＜0.1nm 

    RMS重複性：＜0.01nm，1σ

    台階測量：準確度≤0.75％

    台階高重複性≤0.1％，1σ

    高清晰無限遠成像係統，白光高效LED,光譜濾光

    Nikon幹涉物鏡配置2.5x，5x，10x，20x，50x

    200mm手動樣品台 （XY高精度）+ 傾斜±6°

三維表麵測量儀/三維表麵形貌儀NanoFocus2000(納米級) 分析及控製軟件：

    三維分析處理迅速，結果實時更新

    縮放、定位、平移、旋轉等三維圖像顯示

    自主設定測量閾值，三維處理自動標注

    測量模式可根據需求自由切換

    可創建簡單工作流程，簡化重複工作

    三維圖像支持高清打印

    可進行軟件在線升級和遠程支持服務

外形尺寸：

 外形台式：氣動防震平台

 重量NanoFocus2000 ：130Kg

 尺寸（高×寬×長）： 800×490×480 （mm）

環境要求：

 溫度：24℃ ± 2℃

 溫度變化率：<2.0℃/30 分鍾

 濕度相對濕度：10%—70%，無凝結

 防震需要隔離：1—120Hz 的震動

附件：

 物鏡Nikon 幹涉物鏡，20× (可選配2.5×，5×， 10×， 50×）

 工作台TMC 防震平台（需要地麵振動環境達到VC-D 級別，無空氣流動）

 標準台階塊台階高標準塊(選配，100nm、1um、5um、10um、25um)